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以鎂砂和鉻礦為基本原料，經在電弧爐內熔融，澆注成型，保溫緩冷，切割 等工藝生產。電熔鎂鉻磚生產的工藝條件如下：
配料：輕燒氧化鎂：鉻礦=50 : 50,添加少量添加物，混磨，成坯，干燥。
熔融、澆注：坯料在三相電弧爐內熔融，熔融溫度為2450 ~2550℃; 熔體澆注到石墨板組成的模型中，澆注溫度為2300~2380℃。
退火：澆注體置于填充蛭石的保溫箱中緩冷退火，總退火時間為25d左右。
切磨：澆注體脫模后，經切磨制成需要的磚型。

3.1  電爐襯的砌筑
利用HDG-3型電爐，變壓器功率為2200kV-A,爐底采用鋯質搗打料、石 墨炭磚，爐襯采用黏土輕質磚和中檔鎂鉻磚。
3.2 澆注模板
模板采用石墨質，為了延長壽命，緩和溫差在石墨板外用石英砂板包裹。模型上部加蓋留出澆口和帽口。
澆模設計：230mm x 357mm x 800mm;
澆注質量：250kg。
澆模設計：260mm x 400mm x 800mm;
澆注質量：280kg。
模板：內模石墨質，厚度40mm;
外模：石英砂質，厚度40mm。
3.3 原料
根據電熔鎂鉻磚的技術條件，選用水洗鉻礦、高鉻礦、輕燒氧化鎂、制磚鎂 砂、工業(yè)氧化鋁、鈦白粉、螢石粉為原料。
原料經配料、混磨、機壓成坯，600℃干燥。
3.4  電熔工藝
電熔過程的主要工藝參數(shù)見表。
采用光學高溫計測量的熔融溫 度為2450~2550℃，澆注溫度為2300 ~2350℃。電熔鎂鉻磚澆注成型后，放在填充了蛭石的保溫箱中退火，總退火時間為25d左右。但對磚的顯微結構，熱應力的分布以及體積效應的緩解而言，關鍵的 時間是澆注成型后初的幾個小時。
其中實線是實測曲線，虛線是推測的澆注磚表面的退火曲線。
3.5  電熔鎂鉻磚的性能
將脫模后的鑄塊進行理化性能檢測。
通過這些不同批量、不同編號電熔鎂鉻磚的試驗，確定了完整的配料、熔 融、澆注工藝參數(shù)，可以保證生產出高品質的電熔鎂鉻耐火材料。
4、電熔鎂鉻耐火材料的顯微結構分析
對試制的電熔鎂鉻耐火材料進行化學成分和顯微結構分析。先對電熔鎂鉻 磚進行化學成分分析。C-5取樣點處于制品的中心，其他編號 的取樣點依次向制品的兩個方向的外表面過渡。從表3-13中列出的化學成分可以看出，不同取樣點的化學組成，以C-5為對稱點，呈現(xiàn)非常有規(guī)律的向兩邊遞 變的趨勢，比如SiO2含量，C-5點含量低，依次向C-1方向和C-7方向遞增，同樣的規(guī)律也表現(xiàn)在A12O3、Fe2O3、Cr2O3的含量上，與此相反MgO含量則以C-5點高，依次向兩個方面遞減。這些規(guī)律說明電熔鎂鉻磚，方鎂石固溶體是先結晶的固體相，硅酸鹽是熔點低的熔體，后凝固。
由化學分析結果可以看出，電熔鎂鉻磚的組成是相當復雜的，這決定了電熔鎂鉻磚的礦物組成和顯微結構也相當復雜。
在電熔鎂鉻磚組成中，先凝結析晶的是方鎂石相。這些方鎂石相呈渾圓狀，周圍被其他礦物分隔包圍。圖中帶有白色斑點的渾圓區(qū)域就是方鎂石相，它們被白色的條狀區(qū)(尖晶石)和熔點更低的灰 色浸潤狀區(qū)(硅酸鹽相)所包圍或彼 此分隔。
還可以看到幾小塊邊角整齊的白色區(qū)域，這是尖晶石相，結晶狀態(tài)完整，是在比較理想的條件下由熔點較低的硅酸鹽相中析晶長大的，它的周圍伴生存在著大面積的硅酸鹽相(灰色浸潤狀區(qū)域)。
利用電子顯微鏡能譜儀分析電熔鎂鉻磚磚中的主晶相的成分，可以發(fā)現(xiàn)它是個 成分復雜的組合體，氧化鎂含量(質量分數(shù))僅為51.63%,而 Cr2O3、A12O3、Fe2O3含量均較高。
尖晶石的化學成分與A12O3、Cr2O3在MgO熔體巾的固溶度相對照可知，兩者在A12O3、Cr2O3的相對比例上是相符的，而且非常接近理論值。說明由于A12O3在MgO熔體中的固溶度比較低，因此只要在電熔鎂鉻磚組分中增加A12O3含量，那么電熔鎂鉻磚相結構中就會有更多的晶間尖晶石存在。
在電熔鎂鉻磚中還有一個熔點較低的相，就是硅酸鹽相，硅酸鹽相包括鎂橄 欖石、鈣鎂橄欖石甚至軟化點更低的玻璃相，它們的存在主要取決于電熔鎂鉻磚 中的SiO2含量。硅酸鹽相是后凝結的物相，所以往往存在于方鎂石相、晶間尖晶石相之間的縫隙中，過多的硅酸鹽當然對電熔鎂鉻磚的耐火性能不利，但是如果控制數(shù)量合理，結構合理，對緩解電熔鎂鉻磚的熱應力和體積效應也是有利的。
電熔鎂鉻磚的結晶結構不僅與化學成分有關，而且與凝結過程的冷卻條件有很密切的關系。
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